二手BSL / BETA SQUARED LITHOGRAPHY(光刻机)待售

BSL/Beta Squared Lithography制造的掩模对齐器是在半导体制造过程中使用的高度先进和高效的工具。这些遮罩对齐器的设计目的是使遮罩图桉与基板精确对齐，确保电子电路的精确图桉和蚀刻。BSL/Beta平方光刻面膜对齐器的一个关键优点是其多功能性和与各种基材和材料的兼容性。这些对齐器可以处理厚度范围很广的小型和大型基板。它们提供了卓越的对准精度和可重复性，允许制造复杂的微结构。例如，Micralign系列是BSL/Beta Squared Lithography提供的一种流行的蒙版对齐器系列。Micralign 542HT和Micralign 552HT模型以其高分辨率功能而闻名,能够创建具有亚微米精度的复杂模式。这些对齐器利用先进的光学和对准算法来实现精确的对准和曝光控制，从而产生优越的设备性能。总体而言,BSL/Beta平方光刻掩模对齐器因其可靠性、灵活性和高性能而得到认可。它们广泛应用于半导体工业中，用于光掩模制造、晶圆图样制作、微电子学研究等应用。这些对齐器在高级电子设备的生产中起着至关重要的作用,使制造商能够实现最佳的设备功能和性能。