二手 CANON MPA 500 Fab #17950 待售
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ID: 17950
晶圆大小: 4-5
Mirror projection aligner, 3"-5"
Auto feeders:
Single
Cassette to cassette
Backside wafer handling
Mask size, 4"-6"
Illumination: High pressure mercury lamp, 2 KW
Intensity: > 600 mW / cm2
Illumination uniformity: + 3%
Aperture sizes: 1.0, 1.1
Exposure uniformity: + 3%
Resolution: 1.5 μm
Depth of focus: > 6 μm (Line width 1.5 μm)
Magnification: < 0.4 μm (3 sigma)
Distortion: 3 sigma < 0.5 um
Scanning accuracy: < 1.5%
Auto alignment accuracy: LBS AA 3 sigma < 0.6 um (He Ne laser beam scan)
Throughput, 6”:
83 wfs/h (First mask mode)
72 wfs/h (LBS AA Mode).
CANON MPA 500 Fab是一种全自动、高性能的蒙版对齐器，用于光刻和微加工工艺。它专为精确度和准确性而设计，允许设备和过程具有高度可重复性的可靠重复性。CANON MPA 500FAB专为在硅、石英和玻璃等基板上制作高质量图像图样而设计。该装置提供从1um到5um的高曝光分辨率，以及提供遮罩和基板图桉精确对准的光学对准设备。设备的曝光系统还确保每个样品的结果一致、一致。MPA-500FAB配有一个标准的X-Y扫描表，设计用于基板和掩模的快速对齐。该单元可以对齐小至200 nm的测量面罩,使其适用于细线图桉应用。该机还具有全面的控制精度曝光范围，包括快门控制、曝光光源快门、脉冲宽度调制和直控曝光光源输出。CANON MPA-500FAB提供了多种用于精细图桉和制造的功能。例如，该单元配备了曝光电平控制电路，能够对曝光光源进行精确的平整和定向。此外，该装置允许接触金属和其他高对比度材料，与传统的接触方法相比，接触强度高达5倍。MPA 500FAB具有使曝光模式适应基板模式的独特能力，以减少图桉所需的曝光镜头数量。此功能可提高吞吐量、提高产量和节省成本。该单元还提供多种软件功能，包括蒙版编辑、边缘检测、基板表面检查和图像评估。这些功能提供了可靠和精确的结果，即使在大规模的过程中也是如此。综上所述，MPA 500 Fab是光刻和微加工工艺高速、高质量的掩模对准器的理想选择。该机具有精确的控制和广泛的特点，非常适合在各种基板上制作精细图桉。它还提供了许多软件功能,以简化流程工作流并优化时间和成本节约。
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