二手 CANON MPA 500 Fab #9226312 待售

CANON MPA 500 Fab是一款高性能、可靠的掩模对齐器，旨在为微电子元件，例如高密度半导体器件的制造过程提供先进的光刻能力。它采用了创新的基板吸盘设备，允许精确的基板处理，并实现了极其精确、可重复和高度精确的光刻。该系统还能够在设计包络内应用具有高度可重复性、公差和对齐精度的多层特征。CANON MPA 500FAB中使用的投影仪镜头是一种高端光学解决方桉,具有出色的成像质量,具有全场和边距成像的对准精度。它还能够使用从紫外线到红外线的光源进行光谱成像。连续脉冲激光二极管（CPLD）和深紫外线（DUV）技术，以不同波长提供，已集成到单元中，提供动态曝光控制的灵活性。MPA-500FAB具有高精度光学显微镜和最新的高速数据采集和图像处理技术，具有低颗粒水平的污染控制。其主动空中成像特性确保了关键过程几何形状的精确对齐，提高了配准过程的速度和准确性。此外,其先进的自动对焦机、ABFR光源和S/W可增强刀具的整体性能,从而实现更高的性能和可靠性。CANON MPA-500FAB中采用的计算机辅助维护（CAM）技术使维护、维护提醒和预测性维护功能能够快速轻松,确保正常运行并避免生产过程中短期故障造成的严重损坏。它还为数据库管理提供了安全和优化的自动化访问资产。该模型还提供了一种新型的基板吸盘设备，能够完全真空吸收，并用一只手工作，以确保基板处理过程的最大可靠性和准确性。这反过来又最大限度地提高了吞吐量以及准确性和可重复性,并为放置和提升步骤集提供了理想的环境。此外,MPA 500FAB还提供了广泛的工艺功能,并为工艺优化提供了获得专利的工艺选项。工具包括二次源方法（SSM）和匹配引擎（Match Engine, ME），它们非常精确地计算基板运动，以及优化序列（OS），大大减少了掩码交换过程中的时间损失。最后,系统提供了几乎无限的特征大小、掩码布局和过程序列定制阵列,以实现设计灵活性。