二手 CANON MPA 500 Fab #9269097 待售

CANON MPA 500 Fab是为半导体晶片的对准和光刻制造而设计的高精度掩模对准器。它能够在同一暴露期内对准多达八个晶片，设计用于精确控制，精度高。光学设备提供± 30 μ m的精确对准范围，最大偏差± 15 μ m。CANON MPA 500FAB设计用于有控制的洁净室环境，具有不透气的无尘设计和特殊的密封陶瓷门。该单元可提供0至2mm之间的可调焦距深度和数值为0.5x的最大焦距镜头。在操作过程中，对准器的空气和内壳都通过三级除尘系统进行过滤，以保证最高质量的环境。离子束源通过将电子直接加速到晶圆上来提供严格的清洁度，以消除污染粒子。MPA-500FAB易于使用用户友好的图形用户界面操作。它内置的模式生成器允许操作员快速创建具有多个掩码和光掩码模式的自己定制的缝合图。它还具有快速编写、曝光和对齐算法,用于高速和低成本曝光过程。适用于单层和多层曝光，可产生高达225mm的大面积曝光，或高达6.4mm的小曝光区域。CANON MPA-500FAB的设计具有灵活性，并且与各种抗蚀剂材料兼容，包括正反两种。它具有UV对齐器,结合0.2 μ m的最小特征尺寸,允许以亚微米精度创建更精细、更清洁的口罩。CANON MPA 500-FAB是为精度和可靠性而设计的,击穿概率低.其壳体由高级不锈钢制成，并已被密封，以防止空气中的微粒进入机组。它专为低能耗和短工艺周期的速度和能效而设计。它还配备了一台自我诊断机器,可在出现任何问题时提供反馈,帮助维护和改善性能并防止停机。