二手 CANON MPA 500FA #9226327 待售

CANON MPA 500FA
製造商
CANON
模型
MPA 500FA
ID: 9226327
晶圆大小: 5"
优质的: 1982
Aligner, 5" 1982 vintage.
CANON MPA 500FA是用于制造半导体器件的最先进的掩模对准器。它设计用于高精度的掩模覆盖对准和特征配准,使其成为光刻的理想工具。佳能佳能MPA-500FA可以容纳0.5英寸到12英寸甚至更大的晶片。它具有五个对准系统,包括自上而下的光学对准、自动检测、IC芯片对准、自下而上的光学对准和边界扫描对准。借助图像处理技术,MPA 500 FA只需几步就能准确对齐不同大小和形状的掩模。CANON MPA 500FA具有高精度步进电机和用于对准的伺服电机,精度为+/-2微米。它还提供10级放大倍率和易于读取的液晶显示屏,以实现更好的可视化和操作。通过延长工作距离和多种激光选项,MPA-500FA可以在大面积和高密度应用中精确对齐掩模。CANON MPA 500 FA每晶片最多可容纳八个掩模,最大分辨率为0.5 nm,对准速度为5.8 ms,与最新曝光源兼容,采用先进的计算光刻技术,有效生产高通量、优秀图像质量的掩模。为了提高生产率,CANON MPA 500FA提供了高级晶圆处理功能,如自动处理多个晶圆、晶圆加载、卸载和分类。此外,它有一个双听曝光设备,石英加热器,和一个冷却阶段,以更高的工艺可靠性。佳能佳能MPA-500FA采用先进的光学链路设计,具有卓越的稳定性和性能.此外,它与Windows 10/Windows 7和各种软件兼容,提供了一套全面的支持,以确保高质量的光刻。综上所述,CANON MPA 500 FA是一种适用于半导体器件制造的先进的掩模对准器。它提供卓越的性能、快速的对齐速度和可靠的晶圆处理能力,以实现高精度的迭加对齐和特征配准。MPA 500FA具有多种光学系统和先进的光学链路设计,是精密光刻的有力工具。
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