二手 CANON MPA 500FA #9226328 待售

CANON MPA 500FA是一种高精度的自动掩模对准器，为光学光刻提供了一种高度精确和可重复的方法。它设计用于制造和测试各种3D结构,包括MEMS、微流体以及高长宽比的微结构和纳米结构。它具有较大的工作面积，可达200毫米x 200毫米（7.9 "x 7.9"）。横向对准的对准精度高达0.02微米（2nm）,垂直对准的对准精度高达0.15微米。横向和垂直对齐的对齐可重复性均低于0.01微米（1nm）。CANON MPA-500FA设计用于聚酰亚胺、铬和金口罩等的对齐。聚酰亚胺掩模对准精度为0.03微米（3 nm）。MPA 500 FA具有重力进给系统、伺服驱动器和用于精确横向和垂直定位的旋转编码器。激光干涉法提高了对准精度.CANON MPA 500 FA可以编程为同时对齐多个掩模图样,并且可以与任何光源一起使用。MPA 500FA具有波长范围为365nm至647nm的光源。光线强度可调，曝光时间由0.1ms可变至1分钟。曝光是由TTL输入或内置单表设备触发的。MPA-500FA通过8位微处理器实现自动化和控制。它具有多种I/O和通信选项,如RS-232、GPIB和以太网。该机还兼容CANON LMS-III（激光微机械系统）。曝光模式是半自动的，曝光水平和延迟由用户决定。CANON MPA 500FA作为一种光学光刻系统，其聚焦深度为0.15微米或更高，可以处理非常精细的结构。其分辨率高于其他掩模对齐器，允许更广泛的结构。可以阵列化的结构尺寸也较大，允许使用更大规模的设备。总体而言,CANON MPA-500FA为掩模对准和光学光刻提供了高精度和可重复性。适用于大范围高长宽比3D结构的制造和测试，包括MEMS、微流体、小规模装置。它提供出色的分辨率和深度焦点，同时易于操作和编程。