二手 CANON MPA 500FA #9226335 待售

CANON MPA 500FA是专门为光刻应用设计的高级掩模对齐器。它用于半导体晶圆的制造过程，如沉积和蚀刻材料，在晶圆上产生错综复杂的图样，以及用于其他微电子应用。其最大功率为175W,最大灵敏度为9.0 μ m。佳能MPA-500FA配备了先进的精密元件，如真焦点扫描镜头和场对准功能。True Focus Scanning Lens是一种自动对焦扫描镜头，旨在最大化光束的功率，减少衍射。磁场对准功能确保透镜保持与晶片对齐,而不管其运动如何,从而在晶片上提供更一致的曝光。MPA 500 FA还配备了全自动、多轴掩模对准设备。它具有集成的自动曝光功能,能够自动将曝光与不同大小和形状的图桉对齐。此功能不需要耗时的手动调整。CANON MPA 500 FA有一个带有自动曝光控制（AEC）的先进投影系统。该单元根据图样边缘和整个投影区域调整光束的曝光和聚焦。它还具有板载图像处理和模式对齐功能。MPA-500FA有一个高速光束偏转机，减少曝光时间和增加吞吐量。它还能够同时处理晶片的顶部和底部。MPA 500FA还内置了整体故障保护工具。它会实时监视资产,并在发生故障时向操作员发出警报,以帮助防止设备损坏。总体而言，CANON MPA 500FA非常适合那些需要在半导体晶片上精确快速准确地创建模式的人。它具有高速和高精度的掩模对准功能,其自动化功能使其易于操作。