二手 CANON MPA 600 FA #190737 待售
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ID: 190737
晶圆大小: 4"-6"
Aligners, 4"-6"
Mask sizes: 5”-7”
Resolution: 1.5 um (Using positive resist)
Illumination:
High pressure mercury lamp: 2 kW
Wavelengths: 365nm (I-Line), 405nm (H-line), 436nm (G-line)
Intensity: (@ 1800 Watts power output)
>700mW, 4"
>650mW, 5"
>600mW, 6"
Intensity / Exposure uniformity: Within ± 3%
CTC: Monitors and controls system temperature within ±3°C
PDC: Provides fine distortion compensation
Automatic alignment: HeNe (633nm) Laser beam scanning
Alignment modes: Spot beam / Sheet beam
Accuracy: 3 Sigma <=.54 um
MPA-600 FA: 200 VAC, 3-Phase, 6 kVA, 50/60 Hz
Air supply (CTC): 200 VAC, 3-Phase, 8 kVA, 50/60 Hz
CDA (Clean dry air) Pressure: Flow rate 130 lit/min
Vacuum: >50 cmHg
Exhaust flow (For illuminator): 6.5 m/sec - 9.5 m/sec (Measured at illuminator output).
CANON MPA 600 FA是一种自动化的掩模对准器，用于生产质量尽可能最高的集成电路（IC）。高精度的设备可以提供很高的准确性和可重复性。配备6英寸狭缝场投影对准器、长寿命离子束源和高分辨率光靶。佳能MPA600FA有一个狭缝场投影对齐器，使光刻面罩和目标基板之间能够精确、可重复、高精度对齐。这样可以确保打印过程中尽可能高的寄存器准确性和保真度。该系统还具有长寿命电子束源，可在200 mm IC生产过程中实现清洁可靠的光刻。MPA-600FA还包括一个照片目标，以测量具有卓越准确性和可重复性的对齐参数。电子束光刻装置工作在非常高的速度，并允许过程跟踪低至110 µm以及面罩放置精度高达0.1µm。该单元还有一个集成的光学视频机，便于设置，对准和维护。CANON MPA 600FA具有多种用户友好的功能,例如允许用户存储多达四种不同类型的掩码-晶圆对齐方式的四个程序。该工具还配备了高级数据处理功能,为用户提供过程性能的实时度量。内置的统计审查图还允许对需要最高程度流程控制的FAB进行快速数据分析和微调。总体而言,MPA 600 FA是光刻生产领域公认的领导者,具有极高的精密IC生产能力。长寿命的离子束源、高分辨率的光靶以及对准的速度和精度，使其成为半导体行业内可重现集成电路生产的领先者。
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