二手 CANON MPA 600 FA #293608401 待售

CANON MPA 600 FA是一种全自动掩模对齐器，用来精确对齐光掩模特徵，使晶圆上的模具特徵。它专为生产集成电路、MEMS、光学设备以及高密度封装和显示器等3D设备而设计。CANON MPA600FA基于一种浸入式光学设备，它允许对低至25纳米的图样进行高分辨率成像。它利用高精度对准级进行晶圆和掩模定位，确保高精度对准精度。MPA-600FA还具有针对晶片和掩码的集成自动对焦功能,从而最大程度地减少了设置对齐器所需的工作时间。MPA 600FA具有内置步进器，以启用模式迭加编辑功能和3-D补偿过程。这确保了高配准精度,即使暴露时间较长,也能使图样的精度达到25纳米,符合行业标准1：1的配准精度。它还提供了可靠的px。保真度图模式检测功能，可以检测对齐精度偏移和参考格之间的偏移，从而进一步进行补偿。MPA600-FA还提供了一个图像校正装置，用于图样覆盖晶片到晶片对齐以及掩码到晶片对齐。MPA600FA有一个LED图像生成系统，支持4到40微秒的曝光时间。这使得它适用于从微型到纳米级器件制造的大多数工艺。CANON MPA600-FA还提供了全方位的照明和基板处理，使光掩模图样可以转移到所需的基板上。这将实现设备模式的长期一致性和准确性。CANON MPA-600FA还具有晶圆计量功能,可同时测量晶圆和掩模功能,以确保设备达到所需的校准。该单元包括一台高分辨率成像机，能够读取光源掩模上的二维图样。这项技术允许对掩码图样进行精确成像,并且减少了光掩码图样和设备特征的错误对齐。CANON MPA 600FA是生产纳米范围内精密高精度器件的绝佳选择。此工具设计用于生产设置,具有先进的对齐阶段、集成的自动对焦、模式迭加编辑和图像校正技术。它可靠、准确,并提供设备模式和准确性的长期一致性。