二手 CANON MPA 600 FA #293821333 待售

CANON MPA 600 FA是为基于光刻的半导体和集成电路制造而设计的先进掩模对准器。它非常适合研发应用，并配有符合人体工程学的用户控制台，允许用户轻松操作机器。其主要特点包括激光成像对准设备、自动对焦和晶圆曝光，每次都提供近乎完美的结果。CANON MPA600FA有两个曝光头，每个有一个100 W放电灯。这提供了具有高均匀性、可调节照明和曝光能量的强大曝光源。曝光能量由快门系统精确控制，允许用户确保达到所需剂量。MPA-600FA具有先进的激光图像对准单元。该机器可以将口罩和晶片对齐,分辨率高达50 nm,从而确保了高精度的配准过程。该机还配备了自动对焦工具，可以手动或通过软件进行调整，使用户无需人工操作即可达到所需的焦点。佳能MPA600-FA还能够一次曝光多个晶片，使其比单晶片系统更快、更高效。它有一个加热的压板，最高温度可达140摄氏度，用于清除暴露过程中的碎屑和污染物。MPA600FA带有直观的用户界面,允许用户高效浏览计算机。机器还有一个内置的诊断资产，允许用户快速识别错误并采取纠正措施。此外，该机与行业标准软件兼容，便于与现有流程集成。总体而言,CANON MPA-600FA是需要高精度和高精度的光刻应用的理想选择。它的特性组合让用户能够定期实现一致、高质量的输出，使其成为同级中最可靠的机器之一。