二手 CANON MPA 600 FA #9148243 待售

CANON MPA 600 FA是设计用于半导体器件制造的最先进的掩模对准器。它配备了多项高级功能，如高对齐精度、卓越的吞吐量和广泛的处理能力。该装置用于将光掩模与半导体晶圆对齐，从而能够制造复杂、精确的图样。CANON MPA600FA采用二维空气轴承设计,利用空气将光掩模和晶片从桌子上抬起,确保最大稳定性,同时以精确、协调的方式快速移动两个组件。这种2D空气轴承设计保证了工艺的对准精度极高。线性精度是在亚微米范围内测量的，使得精确的对准能够以最小的努力进行。面罩对准器还配备了扫描激光系统和高灵敏度光学器件。激光系统将精确瞄准的光束投射到光掩模和晶圆上，即使有微小的图桉也能精确对准。此外,高级光学器件允许用户一次查看整个晶片,从而使用户能够全面查看其对齐过程的结果。MPA-600FA能够以每秒600帧的速度运行,在生产芯片时提供出色的吞吐量。此外,它还与一系列薄膜和层压板光掩模兼容,可以对齐各种图桉和尺寸。该装置还具有高抗机械冲击的特性，非常适合在各种制造环境中使用。最后,MPA 600 FA配备了一系列软件功能,例如直观的图形用户界面和用于后对齐分析的各种分析工具。这些功能完善了设备，使其成为目前市场上最全面、最先进的掩模对齐器之一。