二手 CANON MPA 600 Super #9316594 待售
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已售出
ID: 9316594
晶圆大小: 4"-6"
Mask aligner, 4"-6"
Mask size: 5"-7"
Astigmatism: < 2.0 µm
Method: Measure vertical and horizontal
Focus: < ± 2.0 µm
Method: Deviation using tilting mask
Uneven focus: < 2.0 µm
Intensity: > 550 mW / cm²
Input: 1.8 kW
Uniformity: < ±3%
Method: 11 Points measure integrated intensity in CANON IUC-M3
Distortion: [MX] ≤ 0.4 µm, [MY] ≤ 0.4 µm, [DR] ≤ 0.3 µm
Method: DR Mask and wafer
Exposure performance:
Exposure field: R 95 mm
Resolution: 1.4 µm or less
Exposure wavelength: 365 nm (L), 405 nm (H), 436 nm (G) Line complex wavelength
Reduction ratio: X1
D.O.F: ± 6 um (1.5 µm line and space)
Illuminator:
Light source: 2.0 kW Super high pressure mercury lamp
Intensity: 550 ± 50 mW
Uniformity: ±3% or less
Wafer alignment:
Alignment light source: He-Ne Laser (633 nm)
Alignment system: LBS (He-Ne Laser scan AA)
Alignment accuracy (3δ): 0.54 µm or less
Scanning mechanism:
Scan drive unit: Scanning the carriage unit by DC motor drive
Scan range: 6" (160 mm), 5" (141 mm), 4" (119 mm)
Scanning speed: 5 to 150 sec (25 mm/sec - 0.83 mm/sec)
Alignment scope:
Viewing scope light resource: Halogen lamp
Erector lens:
Viewing lens: Manual moving
Erector: 1x, 2x, 3x
Mechanical pre alignment:
Pre alignment accuracy (Range): Φ 100 µm or less
Elbow with exhaust fan
Covers missing.
CANON MPA 600 Super是一种全自动、平行对准(mask aligner)的光掩模、标线和不透明液体光刻剂。它具有高度精确的标线和光掩模对准设备,可用于半导体、液晶和其他电子元件制造中使用的标线的高产通量处理。利用CANON专有的亚微米对准技术,CANON MPA600SUPER产生了精确的对准,且精度最大。其独特的模对准精度是成功进行高产加工的重要因素,额定精度为1 µm或更高。该系统还具有三维对齐配方,可用于执行不同类型的对齐,从线性到旋转,以适应复杂的蒙版设计。MPA-600 SUPER的多用途光学单元具有很高的放大倍率和分辨率以及很长的工作距离。这使机器能够容纳范围广泛的基材,从3英寸到6英寸,从垂直面罩到厚重的晶片。因此,它可以用于各种设备生产过程。MPA-600 SUPER具有各种对齐性能优化功能。其中包括用于监视掩模和标线基板材料状况的掩模轮廓分析功能、用于确保光条对准和曝光模式一致的光条调整校准以及用于优化曝光和对准以获得正确分辨率的模式曝光算法。该工具还可以与各种类型的设备集成,如晶圆跟踪器、成像系统和机器人处理系统,以允许完整的生产资产。这样可以实现快速、自动化的掩码和标线对齐,以及一致和可靠的操作,以实现高产量的吞吐量生产。MPA 600 Super非常适合需要快速、精确和可靠的对齐结果的设备生产应用。它是一种符合器件生产工艺严格行业要求的经济高效工具,广泛应用于半导体行业。
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