二手 CANON PLA 501 F #163560 待售

CANON PLA 501 F是一款高精度、经济实惠的亚微米光刻口罩对准器。它旨在为小型结构提供出色的成像质量和高产率,即使在存在小错位错误的情况下也是如此。该设备具有高效的图像曝光系统，可产生要对齐和传输的图样的高分辨率曝光，从而实现亚微米光刻工艺的高精度。曝光单元利用先进的光学曝光头自动优化图样的投影。这包括光束的倾斜、曝光的放大倍数和曝光区域。利用位于曝光头的优化瞳孔共轭光学器件，进一步提高了曝光水平和图像质量。精确设计的光学对准器对图样进行精确对准和配准，并将错位误差降至最低。通过使用先进的抗蚀剂监视器，机器可以补偿对轴和/或模式变换效果。此外,该工具还包括一个对齐资产,该资产配备了独特的压电转换器,可实现高精度对齐。为了进一步提高精度,该模型包括一个自动对齐优化设备（AOS）,该设备利用专用的图像处理器来确定最佳的配准对齐方式。掩模对准器还包括高精度对准系统，可支持0.25微米对准的最高精度。这种高精度的对齐特性使安装的设备模式能够更好地转移到基板上，产生更好的产量和更精细的模式，并具有高分辨率的再现。该单元还可用于并行工艺，可提高吞吐量，减少亚微米光刻工艺的循环时间。CANON PLA-501F具有改进的人体工程学和自动化功能,操作速度更快。它还包括一个内置风扇单元，以减少灰尘颗粒，导致更好的对准和没有进一步的手动清洁对准。此外,该机器还提供多种软件功能,可方便地配置为存储平版印刷信息。这可以帮助用户快速准备过程并最小化交货时间。总之，PLA 501F是亚微米光刻的绝佳选择，具有精确的对准精度，令人满意的图像质量和改进的自动化。它提供了一种经济高效的解决方桉,可产生高收益和最小的错位错误。