二手 CANON PLA 501 F #293591834 待售

CANON PLA 501 F是为半导体器件和集成电路（IC）制造中的应用而设计的最先进的掩模对准器。它提供了一系列特性和性能特性,使其成为制造过程的理想选择,包括光刻、光印、蚀刻等。CANON PLA-501F专为高效的设备和IC生产而设计，工作面积大，对齐速度快，对齐精度精确可重复。该设备采用高功率对准激光器,并采用全扫描运动进行超快速对准,并配备闭环聚焦误差检测器,确保每次都能获得准确的结果。PLA 501F支持高达8 "x 10"的光掩码大小,并且系统的大工作区允许灵活的设计和工具选项。该单元具有高达每小时1200个晶圆的快速、精确的对准速率，并且在1.5 µm的掩模间距下的对准精度为± 7 µm（10 µm场内± 1 µm）。CANON PLA 501F提供高质量的结果，曝光定量为0.1µm精度。PLA-501F还为不同的遮罩图样提供了可变的曝光时间和多重分辨率，以产生高曝光质量和可靠性。此外,该机器还具有高级功能,如静态对齐和适应不同掩模高度、厚度和尺寸的能力。PLA 501 F还具有控制界面,允许用户自定义和设置布局、参数等。最后,CANON PLA 501 F还集成了掩码预对齐器数据传输、线终评估和曝光后工具验证等服务,以确保制造过程的最佳结果。简而言之,CANON PLA-501F是一款功能强大且可靠的掩码对齐器,可提供高质量的性能、快速的对齐速率和灵活的工作区选项。它是各种光刻、光印、蚀刻等器件和IC制造工艺的理想选择。