二手 CANON PLA 501 F #293807116 待售

CANON PLA 501 F掩模对准机是一款先进的、工业级的光刻机，设计用于生产精确度、分辨率和重复性较高的集成电路（IC）器件结构和半导体元件。该装置包括精密光学和光刻系统，最大曝光面积可达8"至12"（200毫米至300毫米），特征尺寸从5微米至150微米不等。这一特性允许双层光刻，使得两层不同的图样可以同时在单个晶片上传输和覆盖。还包括一个抗蚀剂侧面观看器、晶片支撑板和真空卡盘，以提高精度，以及一个面罩照明系统和快门，以防止过度暴露抗蚀剂。CANON PLA-501F由先进的自动化控制器提供动力,具有10英寸的触摸屏,易于使用和输入数据、可编程逻辑阵列以及图像和掩码处理功能。还包括一个配方编辑器,用于存储和召回不同流程和层的配方。该装置具有坚固的安全功能，包括自动锁室门、控制暴露水平的可调曝光窗口和无尘处理的除尘过滤器。此外，这台机器能够高精度对准。它包括一个自动对齐系统，准确确定掩模模式相对于晶圆的对齐方式，消除手动对齐，节省时间。PLA 501F掩模对准器已被用于许多工业和研究应用，最显着的是用于生产微电子元件、高结构曲面和MEMs技术。其卓越的准确性、分辨率和可重复性使其成为需要高水平成果的专业人员的绝佳选择,而且努力极少。