二手 CANON PLA 501 F #293830593 待售

CANON PLA 501 F掩模对准器是一种顶级设备，用于光子学、电子和光学等行业的高精度微制造。该对齐器采用自动化和直观的数字接口设计,非常适合高容量、高精度的生产和研究。佳能PLA-501F有一个12.5厘米（4.9英寸）的平台，有一个大孔径的面罩放置和曝光。坚固的曝光室可容纳高达8.3厘米（3.3in）的面罩,用于晶圆曝光,可精确生产非常小的特征尺寸。该设备使用独有的佳能定位控制设备（PCS）进行精确的掩模放置。该系统结合了专有的传感、先进的机器人技术和创新的机器视觉技术，以确保在曝光周期开始时口罩处于精确位置。PLA 501F提供可靠且可重复的性能,可重复级别± 1.5µm。这样可以确保每个曝光周期都使用完全相同的设备设置。该设备还具有获得专利的车载计算机和可编程逻辑单元。这使用户能够创建、存储和监视多种曝光配方,允许针对各种微制造过程进行优化的各种曝光设置和性能指标。PLA-501F配备高分辨率1级激光投影机,分辨率高达1024 x 1024 px。此工具使用户能够投影可能需要尽可能高分辨率的复杂微观结构。最后，PLA 501 F具有非常低的噪音和热输出。此功能可最大程度地减少生产中断,并允许长时间工作,而不必担心掩码对齐器的性能。所有这些功能都使佳能PLA 501F高精度微制造和优化生产过程的理想选择,并在未来几年中具有可靠和一致的性能。