二手 CANON PLA 501 F #66342 待售

CANON PLA 501 F是用于光刻半导体器件的高精度掩模对准器。其设计可达到+/-1.0 μ m或更高的光刻胶图样精度,并处理DUV、NUV和I线抗蚀剂。这种高度可靠的精密对齐器为各种半导体器件提供了高分辨率和集成。佳能PLA-501F的低温范围为-20至+350摄氏度，非常适合温度敏感的过程。该对准器采用激光干涉仪和精密真空晶片级，可实现超细对准精度和快速对准速度。它采用内置的实时缺陷检查系统,具有高放大倍数选项,并采用自动掩码处理系统,能够快速加载和卸载掩码。PLA 501F配备了先进的计算机用户界面和全面的内置软件，提供自动对准、模式平滑、模拟阴影检查和校准能力。此掩码对齐器支持多种数据格式,包括AutoCAD DXF、Gerber和WSY文件,以及OPL（光学接近布局）OPL和OPLX。与最流行的光刻系统兼容,PLA 501 F为各种生产过程提供了出色的对准精度。佳能PLA 501F具有较高的吞吐率，适合小规模生产。它拥有较低的成本,包括最低的维护和较低的功耗。PLA-501F配有一系列通用的附件,可用于手动或自动化流程,从而提高了系统的可用性和流程优化。佳能PLA 501 F专为灵活、准确、高效而设计。其强大的设计和可靠性，加上精确的对准，使其成为光刻工艺的绝佳选择。CANON PLA-501F具有广泛的功能和处理能力,是市场领先的掩模对齐器,可确保在经济高效的软件包中获得准确的结果。