二手 CANON PLA 501 F #9301426 待售

CANON PLA 501 F是为微光刻工艺设计的自动掩模对准器。利用超微米分辨率的电动手架、超低压接触偏置和数字反馈回路等高精度特性，实现了掩模和晶圆的最佳聚焦和对准。这有助于显着减少设置掩码所需的时间,显着降低成本和周转时间。其特色还包括内置光源、洁净室收集设备和数字成像系统，以精确对准掩模和晶圆。CANON PLA-501 F先进的光学设计提供了240-330nm波长的强光照射，能够准确检测掩模上的小特征。强大的电子束技术以及一系列精密透镜和像差测试仪进一步提高了照明面罩的清晰度。该系统还包括先进的传感器和控制机制，以保持高精度和精确度，即使存在微小的错位和工艺变化。PLA 501F的设计可提供卓越的晶片对掩模精度,每轴自动掩模放置误差为0.001微米。这确保了成品的微光刻产品质量最高。该机分辨率优于1nm，最大曝光范围为8英寸见方，间隙为20mm或更小。它还包括许多其他功能,如最高8秒的自动打印速度、减少化学暴露的EPC清洁剂功能,以及一台内置激光打印机,用于在出现错误时复制口罩。PLA 501 F带有众多的安全功能，例如帧内安全警告单元和触摸敏感控制面板，以防止在对准过程中出现错误。此外，该机器还可以与许多其他工具和设备集成在一起，如金属化、抗蚀剂打印机、冷却辊等，以提供尽可能最全面的显微光刻工艺。