二手 CANON PLA 501 FA #163565 待售

CANON PLA 501 FA是专为高精度、高通量光刻应用而设计的最先进的掩模对齐器。该设备为纳米/微电子器件的先进制造提供了最佳的光刻平台。CANON PLA-501FA能够在整个基板上提供0.5 µm的稳定对准精度,为下一代集成电路设备所需的器件图样提供高度精确的亚微米临界尺寸测量。该系统结合了CANON独特的投影光学技术，并允许广泛的任意链阵用于先进的3维掩码对齐。该设计具有高精度晶圆级级，允许精确的样品放置以及亚微米可重复性。此外，该单元还与各种抗蚀剂和曝光步骤完全兼容，如软深紫外线、Iline、电子束以及模拟数字光刻。PLA 501FA由一台全面的对齐控制机器提供动力,每小时最多可执行256,000次对齐测量。该工具使用开放体系结构算法来控制对齐过程,并为高度复杂的曝光过程提供卓越的动态性能。集成视觉系统允许高精度模式识别，确保只检测晶圆表面的小细节并精确对齐。PLA-501 FA能够处理直径不超过8英寸的两种不同尺寸的基板,并且由于其低维护设计而高度可靠。总之,PLA 501 FA是一种功能强大、可靠的工具,旨在满足纳米/微电子制造的需要。该资产以较高的吞吐量速率提供高精度,并允许用于3维掩码对齐的任意链阵列。该机器具有高精度的模式识别能力，并允许各种抵抗和暴露步骤。PLA-501FA是先进制造最苛刻的纳米/微电子设备应用的理想模型。