二手 CANON PLA 501 FA #293749121 待售

CANON PLA 501 FA是一种先进的用于半导体光刻工艺的掩模对准器。该设备主要用于晶圆制造和包装工艺。它能够准确有效地暴露接触孔、细线图桉和其他关键特征。CANON PLA-501FA适用于深层紫外线光刻、电子束光刻、抗熔化和热处理等工艺。该系统具有精确到5nm以内的永久性对准单元，可实现高精度和重复性。它还具有较高的基板吞吐量,支持尺寸可达8英寸的基板。机器的遮罩级能够以高达15.6m/s的高速移动，这意味着它可以在短时间内精确对齐和暴露大面积。它还支持自动化的曝光后和烘烤后流程,以简化工作流程。该工具采用三维激光聚焦检测处理，以确保对准精确符合要求。PLA 501FA具有高速FPD标准传输资产,可以快速传输基板而不会刮擦或错位。该模型配备了数字现场平整设备，可确保在整个基板上保持高均匀性，而不牺牲生产率。该系统设计了一个新的对准阶段，提供了一个扩大暴露面积和改善基板平坦度。它可以处理最小线宽为30 nm的图样，使其适合于微加工过程。彩色LCD用户,界面方便操作,并提供有关纠错和设置的反馈。总体而言,PLA 501 FA是一个可靠、精确、高效的光刻装置.其先进的特点、生产力和重复性使其成为半导体晶圆加工的理想选择。它是任何需要精确、可重复和超小型光刻的工艺的理想选择。