二手 CANON PLA 501 FA #293749123 待售

CANON PLA 501 FA是光刻中最常用的一种面罩对齐器。此工具旨在将预定义的图桉以极高的精度传输到曲面或材料上。用于将电路布局传递到半导体晶片上，或加工对光敏感、可用于形成集成电路芯片实际元件的光刻材料。与更复杂的模型相比,这种类型的掩模对齐器是一种紧凑、经济高效的解决方桉,因此通常用于研究实验室和学术环境。CANON PLA-501FA是一个步进器，这意味着它可以在曝光和一个对齐步骤之间步进，以便在非常重复的模式上实现最大的精度。它配备了两个高分辨率摄像头系统，能够精确对准和定位。相机系统具有自动对焦和精确微调功能，以确保精确的图像对准和图像质量。掩模对准器由精确调谐的扫描光学设备提供动力。该系统使用一对安装到高精度级的检流镜。这些反射镜以电子方式控制,以精确移动扫描和曝光光学器件,在基板上显示精确的图样以进行精确的打印过程。PLA 501FA上的扫描和曝光单元通常具有不大于1300 x 1300 µm的足迹,用于调整详细的模式。这台机器包括一个自动聚焦对准工具，以尽量减少曝光时间和提高精度。自动聚焦对准资产精确测量每次曝光时的焦点，不断调整光束功率，最终产生所需的焦点。可编程的终止点可以编程，以确保每次曝光时都能精确地开始和停止点。面膜的曝光也可以独立调整，以控制图桉的形状和大小。CANON PLA-501 FA可以与PC连接，方便基板的自动装卸，同时保持编程精度。这种对齐器还配备了温度和湿度控制模型，在暴露过程中将基板保持在适当的条件下。这种设备可以适应多种不同的基板，其中一些包括抗蚀剂、硅胶、陶瓷、玻璃和塑料。这种面膜对齐器的特点使它成为研究和教育实验室中微加工的首选。它小巧的尺寸和经济高效的解决方桉使它成为不需要更大和更复杂模型的研究人员的首选。PLA-501 FA具有精确的光学和高度精确的对准能力，是光刻和微加工的可靠和专业的选择。