二手 CANON PLA 501 FA #293757355 待售

CANON PLA 501 FA是一种面罩对准器，设计用于光刻制造电气结构。这种装置用于将复杂的图样结构精确打印到包括硅和砷化的半导体材料上。它利用可编程的光学对准设备在工件上精确对准光掩模。这种精确的对齐方式可以精确打印高分辨率结构。CANON PLA-501FA是一个可编程系统,具有广泛的设置。可用于调整曝光时间、聚焦和掩模对准，以确保光掩模的精确放置。这一单元还包括一个空气轴承阶段，其精细和粗糙的对准，可以方便步骤暴露，从而允许产生多层次的表面图样。除了其精确的掩模对准能力，本机还包括一个先进的曝光工具，可用于优化曝光剂量和均匀性。它具有从10mJ/cm2到3,000mJ/cm2的长曝光范围,因此可以满足各种曝光要求。曝光资产还包括一个统一的标定阶段，为复杂的层层曝光提供精确和可重复的曝光。PLA 501FA还集成了可用于设计掩码模式的软件。此软件允许创建具有广泛优化规则的复杂而详细的结构。设计完成后，图样可以精确地印在基板上，精确的对准和曝光。PLA-501FA是一个功能广泛、功能强大的模型，非常适合精密光刻。其可编程设置、对准精度和均匀性校准，以及模式设计软件，使其成为工业和实验室使用的有吸引力的装置。