二手 CANON PLA 501 FA #293763589 待售

CANON PLA 501 FA是一种全场激光辅助对准（FA）掩模对准器，功能层尺寸为12微米，步进分辨率为12.5纳米。这种遮罩对准器适用于高分辨率光刻，以及超精确的制造。CANON PLA-501FA掩模比对器的主要应用之一是集成电路（IC）的制造。它广泛应用于半导体光刻工艺中，因为它的工作面积大、全场聚焦、高精度能力有利于高性能IC的制造。PLA 501FA具有25点X-Y级、六个主动对齐模式位置和两个掩码更换器。这样可以实现并行对齐和阵列化功能,大大提高吞吐量并提高总体生产率。掩模对准器的12微米点大小确保了超高分辨率和精度，而12.5纳米步长分辨率提供了高级应用任务所需的准确性和可重复性。PLA-501 FA是一个强大可靠的系统,具有多种强大的功能,包括内置的跟踪模式分析仪和图形用户界面。跟踪模式分析器允许可视化模式的地形，而用户界面简化操作。该系统具有较高的光电电流，能够在不产生任何伴随失真的情况下对光掩模进行大剂量曝光。这有助于以最小的失调和失真获得优异的效果。CANON PLA-501 FA还配备了可选的轴上数字保护元件（OPE）对齐器，在将数据从IC设计传输到晶圆图样时允许精确的数字保护元件（OPE）对齐。这样可以确保源和目标数据可以完美传输,同时在整个光刻过程中保持准确。PLA-501FA与广泛的光掩模和抗蚀剂兼容，可以处理各种光刻应用。它还具有智能对齐功能,减少了手动对齐所需的时间和工作量。总体而言，CANON PLA 501FA具有高分辨率和精确度，是光刻应用的理想选择。其强大的功能、强大的功能和多种功能使其成为满足任何IC制造需求的可靠且高效的掩码对齐器。