二手 CANON PLA 501 FA #9030659 待售

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製造商
CANON
模型
PLA 501 FA
ID: 9030659
Parallel light UV wafer mask aligner Olympus trinocular microscope head (1) Pair of 10x W.F. eyepieces (1) Pair of Ushio HB-25102AP mercury lamp power supplies.
CANON PLA 501 FA口罩对准器是一种高度精确、经济实惠的光刻设备,专为先进的封装和芯片安装应用而设计。该系统具有310 × 310毫米的大视场(FOV)和高分辨率0.125 μ米步进透镜,以确保基板的精确放置和对准。该单元还有两个独立的基板级,分别有8"和12"的雪橇,以容纳直径最大24"的基板,允许快速方便的掩模装卸、基板运动和聚焦调节。该机器先进的光机械设计和高性能的光电子,可实现快速曝光速度和精确对齐,从而使高级封装或大幅面芯片始终保持高产。为实现图样精度,佳能PLA-501FA掩模对准器配备了自动晶圆对准(AWA)工具,该工具采用了一种先进的算法,可以解决掩模/基材的形状或表面不规则性的变化。这样可以确保在曝光期间面罩的精确对准。此外,该资产易于使用的图形用户界面(GUI)允许用户快速轻松地调整光刻参数,以优化曝光时间并补偿任何模型错误。解放军501FA还配备了可选的激光干涉仪,可以提高定位精度和曝光时间,确保最高质量的结果。CANON PLA 501FA面膜对准器的其他功能包括简化维护程序、清洁计时器和可调节的暴露剂量控制。维护过程采用自动关闭和重新启动,确保设备始终处于完美状态。清洁计时器还可以设置为在任何首选的定期间隔内生效,以便系统始终保持清洁,并且没有任何污垢或残留物。可调的曝光剂量控制允许对曝光时间进行微调,从而产生高可重现性的高质量图像。PLA 501 FA掩码对齐器是一种有价值的工具,可用于快速、准确地为高级封装和芯片安装应用生成高分辨率图像。其庞大的FOV、高分辨率的光学元件、先进的阵列精度和易用性,使其成为许多不同半导体/芯片设计的理想选择。
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