二手 CANON PLA 501 FA #9159256 待售

CANON PLA 501 FA是一种全场掩模对准器，为微加工应用提供最佳的光学性能。掩模对准器适用于在包括3-8英寸晶圆、石英基板和玻璃基板在内的多种基板上对氧化物层进行图样化。蒙版对准器的整体对准精度为0.2um ±，微小的像素调谐，以及高数值光圈的冷凝器透镜，能够对蒙版进行高精度成像，同时保持高对比度。501 FA具有可定制的八板自动索引设备,能够精确对齐多个图样板。501 FA配备了最先进的数字控制器，可精确控制对齐参数。该控制器具有数字模式移位补偿和自动快门控制功能，可在对准和光刻过程中实现更精确的晶圆曝光。这种数字控制器还允许调整过程参数，包括焦点、散焦、照明、曝光和晶圆速度。自动校准和对准功能进一步促进了掩模模式的精确和可重复对准。501 FA还配备了高灵敏度图像检测系统，能够提高对准和光刻精度。此单元甚至能够识别分辨率为1um或更小的最小特征。这台图像感应机提供了改进的对比度、颜色匹配和阴影控制,从而实现了极其精确的图桉对齐。面罩对准器还配备了Erbium激光器，用于图样板的无照明对准。这消除了对外部光源的需求,同时还提高了对准和光刻过程中的工作效率、可重复性和准确性。Erbium激光器还能够精确控制光束的强度和波长，以便在各种应用中实现最佳运行。501 FA进一步配备了先进的自动安全功能。这些特点包括尘埃检测、芯片加热控制和快门自动设置，以提高操作过程中的安全性。501 FA还配备了40点自动对焦工具,可提供增强的成像性能,同时最大限度地减少所需的手动操作次数。总体而言,CANON PLA-501FA掩模对准器是精确对准和光刻工艺的理想解决方桉。这种多用途全场掩模对齐器能够精确控制对齐参数，为各种晶圆制造工艺提供更高的精度、对比度和分辨率。自动化功能、图像检测资产、Erbium激光和高级安全功能进一步促进了微加工过程中的安全性、效率和重复性。