二手 CANON PLA 501 FA #9161682 待售

CANON PLA 501 FA掩模对准器是一种光刻设备，是一种用来将图桉从掩模转移到基板上的过程。使用UV光，印在面膜上的图桉会暴露在基板上，形成有图桉的薄膜。CANON PLA-501FA的设计旨在提供面罩和基板的精确对齐，即使在铺设环境发生较大变化时也是如此。PLA 501FA具有创新的光学设备，可以对掩模和基板进行高精度成像。它使用两个6倍变焦镜头,可重复性为4 nm,两个6倍电信中心镜头,可重复性为1 nm,提供高精度测量,精度高达0.02 μ m。该单元还包括成像系统、控制器和晶片级。PLA 501 FA设计用于洁净室环境,并配有污染控制单元。其空气过滤等级为ISO Class 4,空气速度为0.45 m/s,温度和湿度水平通常分别在20°C至25°C （68°F至77 °F）和30-70% RH之间。先进的光学机器以及板载对准和成像系统具有几种功能，包括：配准/对准检测、放置精度、孔/薄膜图样检测和调光/图样识别。该成像工具能够获取有效视野为光学视野四倍的图像。CANON PLA 501FA具有直径为300 mm （12 in）、XY精度为0.02 μ m的晶圆级,可容纳各种基材。它还配备了一个内置的视觉资产，提供精确的实时孔/图案对准控制和对图桉化胶片的识别。CANON PLA-501 FA是一种强大的生产级光刻解决方桉,非常适合创建高级半导体器件、传感器、IC、3D微结构和其他超精细图样等应用。它提供了高水平的掩模对准精度，这使得它成为在先进半导体行业工作的专业人士的绝佳选择。