二手 CANON PLA 501 FA #9190949 待售

CANON PLA 501 FA是为生产微电子器件和其他光刻应用而设计的高精度掩模对准器。它由先进的纳米定位系统和高分辨率步进电机提供动力，使光刻面罩能够快速准确地对准基板。对准器具有很高的对准精度，能够在x和y两个方向上对准+/-2 µm或更高。CANON PLA-501FA配备了一个安静、快速移动的5英寸舞台。它可以支持最大6英寸的基板尺寸,并带有自动基板装载机。它的总视场为5.12",这为对齐和曝光提供了一个令人印象深刻的视场。视场的补充是读出精度为0.01µm。PLA 501FA具有透镜光学系统,可实现非接触、接触和干涉对准。即使在掩模和晶圆尺寸以及可变基板厚度之间存在差异时,这也允许精确对齐。PLA-501FA提供了优化的照明系统,可根据应用提供全方位、低强度的光源或高度集中的光斑。这样可以更好地照射基板和遮罩,并提高对准精度.此外,掩码对齐器还具有自动掩码移位系统,可帮助减少曝光操作期间可能发生的黄斑对齐错误。CANON PLA-501 FA还配备了获得专利的重新对齐技术,使对齐图像能够存储以供以后使用,从而易于重复对齐。此功能还消除了手动对齐设置的需要。最后，面罩对准器还有一些可用的配件，包括高性能平台和额外的照明器。总体而言，PLA 501 FA是一种可靠、高精度的掩模对准器，使微电子生产效率和准确性大大提高。它提供了光学对准、自动基板加载、优化照明系统和重新对准技术等高级功能,使其成为光刻操作的绝佳选择。