二手 CANON PLA 501 FA #9328888 待售

製造商
CANON
模型
PLA 501 FA
ID: 9328888
晶圆大小: 5"
Mask aligner, 5" Gases: N2: Maximum pressure: 3.5 kg/cm² Maximum flow: 10 LPM Pipe: SUS316 Connector: SWAG Caliber: 1/4" CDA Vacuum Mercury lamp: 250 W Wafer exposure, 5" Washing water containing organic solvent: Pipe: PP Connector: SWAG Caliber: 2" Ground: 1 ohm Manual included Power supply: 220 V, Single phase, 3-wires, 1.6 A Lamp power supply: 110 V, Single phase, 3-wires, 5.5 A.
CANON PLA 501 FA是由CANON Anelva Corporation製造的口罩对准器。它设计用于各种半导体器件的制造过程,具有高精度、模具结构化的设计,使光掩模能够精确对准基板。掩模对准器能够提供精确的对准,具有0.3 µm的重复性和1 µm的精度。该设备支持广泛的基板,包括石英、硅,甚至GaAs,并被设计为与多种光掩模高度兼容。该系统具有强大的高分辨率光学单元,可实现10-5级以上的光强度控制、快速的曝光时间和简单的曝光条件调整。CANON PLA-501FA提供的光强度控制、对准精度和快速曝光时间相结合,使其适合于广泛的应用,包括光刻胶曝光、干蚀刻、焊接和封装。蒙版对齐器具有一个大的、高度直观的触摸式面板控制面板,可轻松操作和调整。它还提供了一个内置的安全警报机器,在工具出现任何问题时会向用户发出警报。此外,资产还采用软启动技术,可减少振动和热失真,从而进一步提高对准精度。该型号的高级功能由多种硬件和软件组件实现,包括高分辨率CCD图像传感器、高级激光成像设备、高精度XYZ轴以及集成软件套件,这些软件套件允许简单调整参数,包括对准精度、曝光时间等。总体而言,PLA 501FA掩模对准器是一个强大而精确的系统,它提供了与各种基板的极好的对准精度。它非常适合各种半导体器件制造过程,并提供高级功能,如光强度控制、快速曝光时间、软启动技术、直观的触控面板等。
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