二手 CANON PLA 501 FA #9328963 待售
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ID: 9328963
晶圆大小: 5"
Mask aligner, 5"
Gases:
N2:
Maximum pressure: 3.5 kg/cm²
Maximum flow: 10 LPM
Pipe: SUS316
Connector: SWAG
Caliber inch: 1/4"
CDA
Vacuum
Mercury lamp: 250 W
Wafer exposure, 5"
Ground: 1 ohm
Manual included
Power supply: 220 V, Single phase, 3-wires, 1.6 A
Lamp power supply: 110 V, Single phase, 3-wires, 5.5 A.
CANON PLA 501 FA是一种用于纳米级光电器件制造应用的掩模对准器，如涉及发光二极管（LED）、激光和光伏（PV）的应用。它是一种多功能机器，可用于精确对齐高分辨率图样的光掩模，以及对齐有机材料和蚀刻成所需的形状。佳能PLA-501FA利用机械和光学元件的组合，在对准和迭加过程中具有更高的精度和精确度。它包括用于对准基板上掩模的高精度、电机驱动的x-y级，以及用于检测光掩模边缘和覆盖的激光二极管光源。CCD成像设备允许操作员轻松执行对准、迭加和蚀刻操作。除了成像能力外，机器还配备了一对真空卡盘，让操作员能够将基板固定在x-y台上，以及一个可调节高度的自由空间对准封装，可以对光掩模进行精确定位。PLA 501FA通过其0.35 μ m扫描仪提供高分辨率模式,能够以1.5 m/s的速度进行扫描。它还具有一个光学变焦，允许高达1,000X的放大倍数，这使得精确的对准和蚀刻操作。最后，机器配备了校准和测试图表，使用户能够确保机器运行准确、分辨率正确。PLA-501FA是光电器件制造应用的绝佳选择。它结合了精度、速度和精度，特别适合制造纳米级器件的苛刻过程。它的多功能性也使它也可以用于其他一系列应用，如微蚀刻和制造有机和无机材料。
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