二手 CANON PLA 501 FA #97269 待售
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ID: 97269
Mask aligner
Mercury lamp
Filter L-39
Image surface illumination: 13mW/cm2
Exposure Repeatability: +/-3%, range 0.1 - 59.9
Alignment scope objective lens: 10x
Eyepiece: 10x - 15x
Size of field view: 10x 3.6 mm, 1.8 mm, 0.9 mm
Distance between visual points on photomask movement range: X: +/-10 mm Y: +/-10 mm
Tungsten lamp: 6V, 3A, 18W
Belt drive
Realignment accuracy total: 100+/-10 um with 72 mm span for 4" wafer, 54 mm for 3" wafer
Auto alignment tolerance setting time: +/-0.5um +/-10um +/-20um.
Approx time: 10 sec
Nitrogen gas pressure: 1kg/cm2 (14.2PSI)
Clean air pressure: 2.5kg (35.6PSI), 3.5kg (49.8PSI)
Vacuum Range: 45-76cm
Power 100/117/220/240VAC +/-10 350VA 50/60 Hz.
CANON PLA 501 FA是为光刻应用而设计的先进的Mask Aligner设备。用于半导体工业中半导体器件的制造。它利用先进的光刻技术，将遮罩线性对齐在光刻胶覆盖的基板上。它具有大面积对准掩码、扩展曝光区域和增强对准系统。先进的光刻单元由高强度紫外线光源和投影透镜组成。集成级的位置分辨率高达0.5 nm,可重复性为0.15 μ m。这个单元还有一个步进电机，其驱动机构被设计成一步移动测量的原点。此外,为实现掩模对准,它拥有100多个微处理器和4个CCD摄像头。CANON PLA-501FA的大面积对准面罩宽度和高度分别为206 mm和170 mm。这允许大面积曝光,并有助于减少时间,从而提高生产率。曝光区域直径79毫米，加固X型梁和便于处理零件的支架。此掩模对齐器提供的高级对齐机包括一个12通道死区确定工具,可准确检测基板上的投影模式。它还具有高精度对齐算法，以更精确的结构对齐。PLA 501FA采用内置高性能空气淋浴，有助于确保清洁空气供应以获得最佳效果。此外，它还配备了自动高度检测、Z级扫描和两种凸轮轴切割机等一系列附加功能。总体而言,PLA-501FA是一款先进的掩模对齐器,专为制造高精度高速半导体器件而设计。它的大面积遮罩、扩展的曝光区域和增强的对准资产相结合，提供了一个准确、快速和精确的过程。
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