二手 CANON PLA 501 S #37944 待售

CANON PLA 501 S是一种计算机控制的掩模对准器，设计用于将光掩模（或标线）对准半导体材料晶片。这种对齐器是一种高度精确的装置，允许在光掩模暴露在晶圆上的过程中纳米级的精度。使用独立的XYZ石英级和可互换光学器件，佳能PLA 501S可以达到高达1.5µm的曝光精度。PLA-501S使用直径为5英寸的照明光掩模级,其模块化设计允许用户选择用于曝光过程的光学器件。该单元集成了一个高精度级,能够进行X-Y扫描,行程距离可达80mm,分辨率可达1 µm。此外，该装置还配备了可调准直仪/共焦镜头组件和电动对焦设备。该501S还配备了一个高速曝光激光系统，能够在可变频率的情况下300mW/cm2可变曝光。该装置还具有每次曝光最多16个透镜的曝光图桉，曝光面积可针对各种基材尺寸进行调整。安全是佳能PLA-501S的一个主要特点，因为该机配备了激光安全装置和内置的安全机制，以保护操作员和光掩模。该工具安装在屏蔽的机柜中,以确保不受外部源的干扰。此外,还包括多级锁定资产,以防止未经授权访问设备。总体而言，PLA 501S是一种用途广泛、精度高的掩模对准器，可以为各种半导体基板提供纳米级的曝光精度。它是一种安全、用户友好的模型，可用于快速、精确的掩蔽技术。