二手 CANON PLA 501 #293644255 待售

CANON PLA 501是一款用于制造半导体晶片的高端光刻掩模对齐器。对于需要快速准确地对齐和传输多个掩码的客户来说,它是一个经济高效的解决方桉。CANON PLA-501的最大场尺寸为25毫米x 25毫米，最多有13个花纹开口。该设计提供1 um的最小线宽,并在设备上提供0.5 um的功能。它还具有0.25 um的对准精度，吞吐量高达每小时20个晶圆。该系统还配备了先进的opto-mechanical设计，能够准确定位和控制掩模场大小和图桉开口。PLA 501拥有两个强大的高性能激光源生成线和成像光束。气耳系统和高精度光学透镜保证了口罩开口轮廓的高品质。它们还消除了人工对齐和操作造成的猜测和错误。PLA-501还设有口罩预处理站，用于控制口罩的质量和口罩的疏散。它还提供了自动控制和反馈，这使得在制造过程中很容易保证图样的质量和正确的对齐。总体而言，CANON PLA 501掩模对准器是一种高效可靠的工具，可以满足半导体制造商的光刻需求。高精度和优异的性能,以及经济实惠,使其成为任何需要快速准确地对齐和传输多个掩码的设施的理想工具。