二手 CANON PLA 600 FA #33364 待售

CANON PLA 600 FA是专门设计用于光刻的掩模对齐器。该装置具有用户友好的界面，适用于半导体器件制造、有机和无机薄膜沉积、复制等应用。掩模对齐器的尺寸为1060 × 830毫米，最佳生产率为每小时6000个晶圆。它配备了两个机动化的遮罩级，彼此独立移动，以最大限度地提高生产力。此外，掩模对齐器使用先进的控制机制，允许精确和可重复的光刻过程。CANON PLA-600FA由两个激光源提供动力：一个是可见的，一个是氙离子激光器，另一个是紫外线。氙离子激光器提供504-514纳米的宽波长范围，提供<2微米的光学分辨率。紫外线氙气闪光灯用于在248纳米的波长下创建和检查抗蚀剂图样。该装置还具有超高精度的预对准装置，通过测量模式匹配点和识别失真来精确定位掩模到晶圆。这款蒙版对齐器配备了DSP（数字信号处理）系统，使用户能够控制图像大小、位置和变形。它还允许用户创建具有高速、高精度对准精度的高精度图桉。自动对准和成像使用4轴电动机执行,从而实现快速、准确的定位。该装置还能够探测极小的粒子，大小可达2微米。PLA 600FA还采用了先进的数值优化算法，提高了工艺产量，减少了光刻时间。它还具有一个任务定义功能，允许用户将任务分配给特定单位，并为每个任务自动优化系统。此外,CANON PLA 600FA具有内置的诊断和自我诊断系统,用户可以轻松诊断和排除故障。最后,PLA 600 FA是需要高精度和快速处理的光刻工艺的绝佳选择。此设备非常适合工业应用,可靠、高效且经济实惠。