二手 CANON PLA 600 FA #9026887 待售

CANON PLA 600 FA掩模对准器是一种高度精确的光刻设备，用于生产半导体集成电路。它是为简单的使用和最高的精度而设计的，支撑着从180毫米到200毫米大小的各种基板。该系统通过使用安装在与基板相同的X-Y级上的精确激光模式发生器来实现高精度。这确保了整个基板之间的对齐是可能的。它还能够在所有基板上进行全局移位和高精度模式尺寸调整。利用高质量的扫描离子束（SIB）技术实现掩模对准和曝光，优化了覆盖精度和吞吐量之间的平衡。该单元使用衍射掩模在单个运行中实现所需的对准和曝光，并结合了脉冲激光功率调节器，用于基板表面更清晰的特征。集成了先进的光学传感器机器，可确保1 μ m的直接对准精度和2 μ m的覆盖精度。该工具还利用各种先进技术，在传统方法所需时间的一小部分内处理光阻胶片。这包括先进的紫外线光源和可调节的快门资产，用于精确的曝光控制；以及用于自动调整和自动聚焦的多点光束扫描模型。该设备集成了一系列数字自动化功能，如FOUP（Front Opening UNPlease）装载机，以实现最大的运输能力；自动倾斜/移位以调整倾斜和移位以实现模式可重复性；以及用于改变工艺环境的喷嘴中心装置。佳能PLA-600FA非常适合生产高密度和半导体器件，具有扩展的可编程曝光等特点。该系统提供了非常准确的结果和快速的周转,减少了生产时间并提高了生产率。