二手 CANON PLA 600F #293830592 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 293830592
晶圆大小: 2"-6"
Mask aligners, 2"-6"
Photo mask size: 2.5", 4", 5", 6", 7"
Illuminator:
Lamp: 250W super high pressure mercury lamp
Uniformity: +/-3% / D150 mm
Exposure time setting: Light integration method (Switch setting from 0.1 to 59.9)
Exposure time: 5 sec for positive resist (AZ 1470), 2 sec for negative resist (OMR 83, using, ND-50 filter)
Alignment scope:
Objective lens: 10x (5 x, 20 x)
Zoom erector: 1 x-2.5x
Eyepiece: 10 x (15 x, 20 x option)
Field of observation: image
Scanning range X/Y direction: +/- 10 mm joystick
Alignment method:
Auto alignment (PLA-600FA): +/-0.5, +/-1.0, +/-2.0 ILm
Tolerance setting: Key patterns for auto alignment
Offset control: (0-7.9 ILm in 0.1 ILm units, 0-791Lm in 1 ILm units)
Alignment mode: Auto, semi-auto and manual.
CANON PLA 600F是一种用于各种半导体和微电子芯片制造过程的Mask Aligner机器。机器被设计为垂直对齐的设备，基板安装在舞台上，然后相对于遮罩或标线垂直移动。它可以处理直径达6英寸的晶片，典型的处理时间为每晶片30 ~ 60分钟。CANON PLA600F有一个裸露的压板，并配有低能散射预对准系统。这个单元精确地将掩模与基板对齐，即使错位高达3 µm。它还旨在保护基板在对准过程中免受潜在损害，并保持清洁和无碎片的工作环境。PLA-600F有一台双轴扫描机,能够以各种模式运行,以适应广泛的过程。可以调整扫描方向、扫描速率和曝光强度,以适应不同的工艺参数。机器还配备了自动曝光工具，允许精确的曝光控制，以确保在一系列图像尺寸上的过程均匀性和准确性。在照明光学方面，CANON PLA-600F可以容纳一系列镜头，可以选择显微镜目标、微距目标和现场目标。这种广泛的镜头选择使机器能够精确对准不同大小和形状的基板。该资产中还包括用于高级照明均匀性控制的佳能传感器阵列模型。该设备可用于控制边缘照明和基板曝光时间的均匀性。CANON PLA-600 F还具有CLASS-SEV真空系统,在加工过程中将基板牢固地固定在舞台上。该装置还确保清洁、无碎片的真空环境。机器的舞台也很容易使用，可以通过简单直观的用户界面进行调整。综上所述，PLA-600 F是一种多用途且精确的掩模对齐机，能够处理一系列不同的过程。它配备了一系列镜头、一台传感器阵列机和一台CLASS-SEV Vacuum工具，均确保精确对准、照明均匀性和清洁度。易于使用的用户界面使这台机器易于使用,有助于确保平稳高效的生产。
还没有评论