二手 DNK MA-4200 #293762485 待售

DNK MA-4200是为生产半导体工业中的光刻口罩而开发的高精度口罩对准器。它的设计目的是使不透明和透明的光掩模与光刻中使用的基板对齐，并且能够提供精确和一致的光掩模与2 μ m范围内的基板对齐，以取代掩模或基板。该对准器具有30X的物镜和改进的对准设备，以提供最佳的图像形成和改进的掩模与基板对准能力。通过使用激光二极管将光掩模投影到基板上，对准器起作用，从而提供高精度和精确对准。交互式注册系统使操作员能够轻松地识别和调整基板上的注册标记，同时高分辨率摄像机获取对齐图像进行处理。该摄像机采用先进的基于算法的图像识别技术，能够精确地测量定位标记的大小和位置以及其他特征。该工具采用改进的基板表，经过精确校准和数字控制，以500毫米/秒的速度和精确的基板运动。该表还设有一个手动和自动莱特机器，允许选择适当的加权性能，以满足各种基材的需求。对齐器配备了多种操作，包括水平和垂直面罩倒置、面罩翻转和屏幕移位操作，以及手动基板移位功能，允许快速准确的对准调整。DNK MA4200采用用户友好的图形控制软件设计,可轻松准确地操作对齐器。此外,其自动缺陷检测（AD）功能使操作员能够快速识别光掩码上的实际故障点。对齐器还具有可选的边缘检测工具,可提供额外的位置精度。这使得它成为生产半导体工业中使用的光刻口罩的理想选择。