二手 DNK MA-4200 #9159261 待售

DNK MA-4200是一种自动化的掩模对齐器,设计用于处理200 mm以下的晶片。它具有掩模定位器（MP）和对准显微镜（AM）,可用于晶圆上各种器件结构的精确对准。掩模对齐器常用于微电子工业中的光刻工艺。掩模定位器（MP）具有X-Y定位系统,可将掩模框架移动到晶圆上方。它能够将掩模框架自动对准晶片,分辨率为0.1 μ m。它配有同步电动机和高分辨率编码器，用于精确定位。口罩定位器还允许借助对准显微镜手动微调口罩框架。对准显微镜（Alignment Microscope, AM）是一种具有内置激光二极管和防溅视图端口的光学显微镜。用于以纳米级精度观察和对准晶片上的掩模框。对准显微镜的放大倍率为10倍,分辨率为0.2 μ m。它能够对准大面积基板与对准目标的帮助。DNK MA4200还包括摄像机定向机制（COM）,用于定向摄像机进行掩码写入和其他处理。COM配备了高性能的扭矩电动机和精密的编码器，使其能够在晶圆上高度精确地对准相机。此外，Mask Aligner配备了大功率卤素照明器，使得在大面积上产生均匀照明成为可能。它具有内置冷却系统,可增强掩码写入性能,以及用于跟踪维护操作的维护日志。MA 4200是一款可靠高效的Mask Aligner,具有适合各种光刻工艺步骤的功能。它提供了精确度、精确度和性能的完美结合，使其成为高质量微电子制造的理想选择。