二手 ELS TECHNOLOGY ELS 106FA #9052741 待售
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ID: 9052741
Fully automatic mask aligner, 2" - 8"
Mask Size: 4" - 9"
Lamp House: 250W, 500W, 1KW
Wave Length: Broad Band, 365/400/436nm
Light Intensity: >20mW / cm2 Based on 365nm (250W); >40mW / cm2 Based on 365nm (500W)
Light Intensity Uniformity: < 3%
Effective Exposure Area: Max. 150 mm x 150 mm / Max. 200 mm x 200 mm
Transportation: Double Arm Robot
Exposure Mode: Proximity, Soft, Hard, Vac. Contact
Alignment Key: 150 x 150um and smaller
Alignment Accuracy: ± 1um
L/S Resolution: 1um Based on contact Mode, PR thickness: 1um
Running Time: < 28 sec./pc
System Control: PC Base
Option: Cut Filter, Double Sides Alignment.
ELS TECHNOLY ELS 106FA是一款用于微电子和光子学制造的现代化、高端自动掩模对准器。它是任何以研发为导向的公司、实验室或大学的理想解决方桉。ELS TECHNOLOGY ELS-106FA利用光刻技术的最新进展,为广泛的应用提供高度精确的光刻技术。ELS 106FA的主要组件是控制器、舞台甲板、舞台轮、掩模托架、模式发生器、晶圆处理程序和晶圆表。控制器是一台台式计算机,配备最新的Windows 10 Pro软件包,专用于运行ELS-106FA光刻设备。舞台甲板和舞台轮提供晶圆和掩模台相对的精确运动。掩模载体装有模式发生器,该发生器负责生成所需的平版印刷模式。晶片处理程序将晶片从晶片台转移到舞台甲板。最后,晶片表是掩模和晶片对齐固定的平台。ELS TECHNOLY ELS 106FA采用了一种获得专利的跳台掩码对准程序。这项专利技术旨在减少精确校准掩模和晶圆所需的时间。ELS TECHNOLOGY ELS-106FA是一个自动化系统,能够在没有操作员干预的情况下执行所需的光刻模式。该单元还具有顶级的8 µm分辨率,使其适合大多数要求高精度的应用。除了强大的光刻能力外,ELS 106FA还支持众多的模式生成技术。这包括使用自定义开发的设计模板库或将自定义设置应用于用户提供的掩码。此外,该机器能够独立地控制单个板的曝光,从而实现更复杂和先进的光刻设计。ELS-106FA还具有许多其他特性和功能。例如,该工具支持遵守行业标准,包括IPC-A-600和IPC-7351。它还支持一次最多500个熔融晶片的报告和可追踪性。此外,该资产还支持各种自动化质量保证工具。最后,ELS TECHNOLY ELS 106FA Automated Mask Aligner的性能和功能无与伦比。它提供高分辨率的自动化光刻,支持多种模式生成技术,并支持行业标准。这些特性使得ELS技术ELS-106FA微电子和光子学制造的理想选择。
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