二手 ELS TECHNOLOGY ELS 106SA #9059476 待售
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ID: 9059476
晶圆大小: 2 to 6
优质的: 2011
Semi-auto mask aligner, 2"-6"
Mask Size: 4"~7" Mask
Lamp House: 250W & 500W
Wave lenght: Broad Band (365 / 400 / 436 nm )
Light Intensity: > 20 mW/cm2 Based on 365 nm (250W) , >40 mW/cm2 Based on 365nm (500W)
Light Intensity Uniformity: < 3%
Effective Exposure Area: Max. 150 mm x 150 mm
Leveling: Auto
Contact Mode: Auto
Exposure Mode: Proximity / Soft / Hard / Vac. Contact
Alignment Accuracy: +- 1um
L/S Resolution: 1um Based on Contact Mode, PR Thickness : 1 um
Antivibration Table: Yes
System Control: PC Base
Option: Cut Filter / Double Sides Alignment
2011 vintage.
ELS TECHNOLOGY ELS-106SA是一款紧凑易用的掩模对齐器,用于制造高质量的半导体器件,如内存芯片、逻辑器件和薄膜晶体管。ELS-106SA设计用于在晶圆表面上精确快速地对齐和传输高分辨率光掩模,扫描面积可达5mm x 4mm。ELS TECHNOLOGY ELS-106 SA先进的光学对准设备自动检测所有光掩模和晶圆层的特征大小、对准误差、迭加精度和工艺参数。ELS-106SA配备了高度精密的机动化对准系统,可自动检测光掩模和晶圆层中所有精度为20 nm的端点。此外,光掩模图样映射到晶圆的位置设置也被自动控制。对准单元由内置激光散射机增强,提供精确的动态迭加测量,允许将光掩模图样精确对准下面的薄膜层。ELS TECHNOLOGY ELS-106SA还配备了高效步进电机,用于将光掩模精确定位在晶圆上。这款电机配有一个索引器,并由ELS-106 SA的嵌入式微控制器工具提供动力,提供精确的纳米级对准。ELS TECHNOLOGY ELS-106SA还具有自动聚焦功能,允许用户以更高的分辨率和准确性优化曝光,同时仍能提供强大的性能。ELS-106SA还配备了由温度控制器调节的环境温度控制环境,以确保过程稳定。这一附加功能有助于确保低光掩码与晶圆的接近度,这对于应变硅技术等应用至关重要。ELS TECHNOLOGY ELS-106SA是独立的,但可以单独配置以满足各种测试和过程要求。支持平台中性测试条件,可与其他系统集成,用于自动缺陷检测和光掩码优化功能。ELS-106SA还具有远程访问功能,可用于远程监视和资产性能分析以及故障排除。总之,ELS TECHNOLOGY ELS-106SA是一种可靠可靠的掩模对准器,能够为各种半导体器件提供高质量的光掩模。其先进的自动对准和自动对焦功能确保了无与伦比的准确性和可重复性,而其温度控制的石英元件则提供了高分辨率晶圆加工所需的稳定性。其其他特性如远程访问、平台中立性以及与其他系统的集成,进一步提高了其有效性。
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