二手 EVG / EV GROUP 40 #9197307 待售

EVG®/EVG/EV GROUP 40 Mask Aligner是一款用途广泛、精密的光刻设备,设计用于在半导体器件上制造一致的微观结构。该系统允许在受控环境中使用均匀的紫外线对准和可靠曝光尺寸不超过3.7英寸的基板。Mask Aligner独特的双级设计确保了每一层的准确和干净的曝光,而标准的内置真空在光刻过程中将基板紧紧固定。此外，该装置能够处理各种各样的光掩模和其他光学上透明的基板，以获得优异的效果。Mask Aligner配备了先进的数字对齐机，允许在曝光时精确定位光学清晰的基板。对准工具采用两个阶段的精细调整，以达到完美的配准精度，确保每个微观结构都能以干净均匀的光洁度成功暴露出来。此外，一个独特的光学对准传感器跟踪基板的精确位置，消除错位和保证重复曝光的准确性。该资产的光学腔室旨在减少光散射，以便在整个基板上均匀的紫外线照射。这样可以确保在每一层上精确复制相同的结构,而内置真空允许在整个过程中保持稳定和安全的牢固固定基板。Mask Aligner除了具有自动对准功能外，还可以处理多种光学上清晰和半透明的基板，方便清洁一致的光刻。为了满足更具体的需求,可以使用专门的软件、硬件和附件（例如高精度加热级、高性能UV灯）定制模型。此外,Mask Aligner可与现有生产线集成,实现无缝集成和最终通用性。总体而言,EV GROUP®/EVG 40蒙版对齐器是任何需要极高精度和精确度的操作的理想选择。其先进的光学腔室、自动对准设备以及处理各种基板的能力，使其成为半导体器件制造和其他高科技制造作业的理想选择。