二手 EVG / EV GROUP 420 #9292586 待售
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已售出
ID: 9292586
晶圆大小: 4"
优质的: 1999
Mask aligner, 4"
Top and back side alignment
BSA Chuck wafers
(2) Edge clamping BSA chucks
Transparent chuck for wafers
Manual loading
1999 vintage.
EVG/EV GROUP 420 Mask Aligner是为光刻应用而设计的技术高度先进的设备。利用下一代光学,该系统能够精确对准纳米应用的光掩模。此设备能够打印小至35nm或更高的功能,是最先进技术的理想选择。EVG 420除了印制精确度令人印象深刻外,还提供多种功能,使其成为高精度制造的一个有吸引力的选择。EV GROUP 420 Mask Aligner由10.4百万像素相机传感器、可调成像镜头、高精度电动级、集成真空晶片卡盘以及用于控制整个机器的高端PC组成。该工具还提供了多种软件选项,使用户能够完全控制光刻工艺的所有参数。该资产提供高达15 nm的高精度对齐精度,并且能够精确打印35 nm或更高特征的图桉。其聚焦和位置反馈模型确保了一致的打印结果,而高移动速度和可重复定位为大批量生产提供了更大的吞吐量。此外,该设备还具有对准监控系统和自动对焦功能。420 Mask Aligner还提供了多种重要的安全功能,如集成的紧急停止按钮、手动可操作性覆盖和自动关闭功能。这些安全功能有助于确保任何制造团队的安全工作环境。总而言之,EVG/EV GROUP 420 Mask Aligner是一个功能强大、用途广泛且极其精确的系统,非常适合任何复杂的光刻操作。其先进的技术和各种软件选项使其成为希望保持领先地位并生产最优质纳米级产品的任何生产工厂的理想选择。
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