二手 EVG / EV GROUP 601 #9402075 待售

EVG/EV GROUP 601 Mask Aligner是一种高精度的mask aligner,设计用于制造高级光掩码的多处理套件的一部分。基板尺寸可达200 mm x 250 mm,对准精度可达60纳米（nm）,这款蒙版对准器设备齐全,即使是最精致、最灵敏的光掩模也能处理。EVG 601 Mask Aligner专为需要在基板上精确对准图样光掩模的制造工艺而设计。掩模对准器配有双级对准标记和实时成像，以达到最大精度，确保光掩模与基板精确对准。其二维精密级采用压电驱动技术提供纳米级步进分辨率，提供10 nm的位置重复性。EV GROUP 601 Mask Aligner可容纳最大200 mm对角尺寸的晶片，其对准系统可调节以容纳不同形状的光掩模。601 Mask Aligner是先进的光刻工艺的绝佳选择,例如曝光和显影面罩和标线,以及预加工和后处理的光掩模。此外,掩码对齐器还配备了板载导航系统,可在对齐标记之间自动移动,并可加快对齐时间。导航系统还可确保更快、更精确的基板与掩模对准。EVG/EV GROUP 601 Mask Aligner是一种用途广泛且可靠的Mask Aligner,可用于多种光刻工艺。掩模对准器能够提供高精度的对准、快速的处理速度和提高的产量，使得EVG 601成为光掩模处理的理想选择。