二手 EVG / EV GROUP 610 #9197737 待售

EVG/EV GROUP 610是光刻工艺中使用的最先进的精密掩模对准器。它专为生产用于光刻的高级光掩模和标线而设计，专门用于下一代加工节点。这些遮罩对准器使用基于光刻的双快门设备来实现± 1nm的图样精度。EVG 610还具有独特的机械、电气和软件组件组合,可提供精确的对齐和可重复的过程结果。EV GROUP 610具有先进的光学系统,具有二极管激光单元,该单元使用多种可选的激光波长和功率级别,以实现高分辨率和准确性。这使得它非常适合在最先进的节点上生产光掩码和标线。激光还允许高精度对准和配准，即使使用先进的带有悬垂结构的光掩模。此外,610的激光器具有很强的鲁棒性,反射率低,非常适合生产各种光掩模。EVG/EV GROUP 610还有一个自动化的基板处理机，可以对晶圆进行高效的对准和处理。这包括一个自动进纸器和一个可选的自动基板装载器，使其非常适合生产需要。伺服控制晶片和标线级具有1.5nm的可重复性，具有超高精度和精度。这些阶段还具有用于优化零件移动的先进运动控制算法和用于精确零件放置的电动侧倾补偿模块。EVG 610具有多功能曝光工具，其中包括高精度、固定位置的紫外线投影资产。该模型确保了高精度光刻应用的精确和可重复的配准。EV GROUP 610还提供了具有集成模式识别算法的全自动曝光控制设备，以实现快速可靠的操作。最后,610具有先进的晶圆跟踪和监控功能,包括集成的0段CCD摄像头系统。该集成单元具有先进的缺陷识别算法和与下游流程跟踪系统的集成。此外,还提供了一个可选的软件包,该软件包具有高级功能,如3 D优化算法、增强的缺陷识别功能和过程监控。总体而言,EVG/EV GROUP 610是一款顶级的掩模对准器,具有高级功能,可用于高精度光刻处理。光学、机械、电气和软件组件的组合使其非常适合生产最先进的光掩模和标线。此外,自动化机器和缺陷识别功能可提高流程效率,并提供可重复、可靠的结果。