二手 EVG / EV GROUP 620 #293592949 待售

EVG/EV GROUP 620是用于晶圆级光刻处理的全自动掩模对齐器。它为研究、开发和生产目的提供了广泛的应用。EVG 620采用高精度、二维的镀锌扫描仪，负责控制要在晶圆上创建的模式。这种遮罩对齐器还提供了卓越的精度，最小光斑尺寸为2.2微米，最大位置精度为+/-10纳米。它还提供了广泛的可以使用的基板，如Si（硅）、Kapton、玻璃和石英。使用EV GROUP 620,用户可以在直径不超过8英寸的晶片（包括嵌入小型电子元件的晶片）上创建图样并执行光刻工艺。此外,掩模对齐器在XY轴上提供了± 25 mm的宽工作范围,从而可以在大型晶片上快速阵列化。面罩对齐器还提供高度自动化，具有用户友好的触摸屏控件和自动对齐系统。它还能够产生各种光学功率，包括标准非多孔基板的5-20mW和多孔基板的20-80mW，允许产生具有极好重复性的高分辨率模式。620还利用了最先进的软件,使用户能够使用高精度执行晶圆处理。用户友好的界面使用户能够快速轻松地设计、对齐和蚀刻蒙版上的功能。总体而言,EVG/EV GROUP 620为需要晶圆级光刻处理的行业提供了高效、经济高效的解决方桉。它功能强大、用户友好的软件,加上出色的准确性和自动化控制,使其成为用于研究、开发和生产目的的理想选择。