二手 EVG / EV GROUP 620 #293732724 待售
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EVG/EV GROUP 620掩模对准器是为微电子和光电器件的制造而设计的精密光刻工具。此工具使用户能够使用接触光刻技术将细线和超细线特征精确地阵列化为基板。EVG 620能够产生高产量、高精度的亚微米特性。EV GROUP 620具有可变照明设备,包括掩模和晶片级、一个或两个可移动反射镜以及独立聚焦、曝光和对准控制。这一特性使系统能够曝光光波长在350 nm至560 nm之间的基板。该单元还可以配置软件控制，以便能够使用各种光刻工艺。620集成了自动对准功能,这要归功于其内置的激光模块。此特性大大提高了掩模对准和迭加步骤的精度，从而减少了工艺时间和成本。掩模对准机使用两个激光二极管光束，以确保光刻工具内的光掩模和基板精确对准。给定几何的对齐精度优于0.2微米。此外,EVG/EV GROUP 620还提供自动模式生成功能。利用复杂的软件,用户可以为制造过程中的每个标线生成高度详细的光学脚本。该软件允许对精确曝光进行优化，以最大程度地减少缺陷的发生，最大限度地减少镜头对镜头的变化。EVG 620非常适合许多工业应用,包括高分辨率标线、微电子器件中的缺陷减少以及薄膜光伏器件。它兼具精确度、性能和生产友好特性，是制造商的绝佳选择。
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