二手 EVG / EV GROUP 620 #9144780 待售

EVG/EV GROUP 620是一款高端光刻掩模对齐器，设计用于掩模、晶片和基板的精确对齐。它是一种计算机与掩模对齐器（CMA），允许以最高精度和准确度将曝光掩模对齐基板。该系统能够为半导体和电子元件制作分辨率为1 μ m的模版。EVG 620有两个步进电机驱动的XY运动平台，提供了基板的精确对准。这些平台驱动一个运动平台，该平台可容纳一个曝光掩码，使其能够以精确的增量在两个轴上移动。这与具有特定图样或设计的掩模相结合，使基板或晶片能够在不接触低错位或位移的情况下转移。除了为光刻工艺提供精确对准外，EV GROUP 620还具有自动对焦功能。自动对焦确保在曝光过程开始之前对基板进行精确扫描，确保整个过程以最佳方式进行。620配有直观清晰的图形用户界面,便于操作和设置。它允许精确快速的定位，意味着整个光刻过程可以快速无缝地完成。此外，EVG/EV GROUP 620设计为模块化，可以轻易升级，以满足客户不断变化的需求。这样可以灵活地进行线下的潜在升级。最后,EVG 620是高度可配置的,可以定制以适合特定的应用程序。无论是高精度对准还是细腻的细线工作，EV GROUP 620都可以根据不同的客户要求进行设置。620是一款高端的光刻面罩对齐器，提供精确准确的曝光面罩和基板对齐，具有集成的自动对焦系统，以及清晰的图形用户界面。它是模块化和可自定义的,并具有升级功能,允许无缝操作和最大的用户满意度。