二手 EVG / EV GROUP 620 #9149820 待售

EVG / EV GROUP 620
製造商
EVG / EV GROUP
模型
620
ID: 9149820
晶圆大小: 6"
Double-sided mask aligner, 6".
EVG/EV Group EVG/EV GROUP 620是光学光刻中使用的下一代掩模对准器。与同类产品中的其他掩码对齐器相比,它提供了更高的准确性、不妥协的一致性和卓越的过程一致性。该设备具有全自动、高速对准阶段。它采用了具有前所未有的准确性和可重复性水平的微定位系统。光学探测相机有助于确定晶圆样品的确切位置。光学对准单元满足跨晶片临界尺寸均匀性的半导体标准,高分辨率对准传感器提供精确的位置精度。遮罩级由全自动高速指向单元和视场平面组成,根据遮罩尺寸和光刻胶厚度不断调整。这样可以确保蒙版放置的准确性,并减少潜在的配准错误。此外,机器有一个集成的机械夹紧工具,方便快速加载和卸载面罩。该资产具有多项功能,旨在简化用户工作流程并提高效率。自动配方模型只需一个配方即可简化流程设置和一致性验证。直观的用户界面允许用户快速构建和控制流程配方,并允许实时调整。此外,该设备同时支持最多五个配方运行,以提高吞吐量。EVG 620提供世界一流的光刻性能。其高精度对准系统提供了卓越的准确性和可重复性。全自动蒙版放置阶段确保了精确的蒙版定位,直观的用户界面允许用户轻松调整配方和处理设置。该系统还具有集成的温度控制技术,可重复可靠的工艺性能。
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