二手 EVG / EV GROUP 620 #9180755 待售

EVG/EV GROUP 620是专门为先进光刻和光掩模生产而设计的掩模对齐器。这种面罩对齐器适用于研发实验室、大学研究或试点生产应用。此掩模对齐器具有许多功能,使其在光掩模行业中获得成功,例如能够对190 mm和200 mm晶圆格式进行成像。因此,EVG掩模对齐器具有广泛的用途,能够对简单和高级结构进行成像。位于掩模顶部的感光层允许对较大基板直径进行高质量成像。该层还可以方便地将成像过程从掩模转移到设计的基板，从而确保实现正确的精度和对准。先进的过程控制确保设备产生准确和可重复的布线和成像结果。这是通过双级工艺实现的，其中第一级涉及光致抗蚀剂的应用，第二级涉及基板的暴露。此过程以完全自动化的方式完成,并有机会在必要时添加其他步骤,例如压纹或线标记。EVG 620成像系统还具有基于激光的原位曝光工具，使精密的集成电路设计能够以最小的人力和时间准确创建。用户友好界面完全遵循掩码制作流程，只允许访问必要的功能。刀具结构设计方便，有定制的安全灯幕护卫曝光室，以确保只有有安全标志的人员才能进入机器。此外，还有一个内置通信系统，可以从其他地点进行远程监测和控制。再者，EV GROUP 620的设计是完全模块化的，允许用户针对特定的应用需求选择合适的工具配置。这种灵活性缩短了产品开发和高效升级和更新的准备时间。总之，620是一种具有先进工程和用户友好特性的有效可靠的掩模对齐器。它的模块化设计足够灵活以适应所有类型的情况和要求,并且易于使用的过程控制确保了高质量的成像结果。