二手 EVG / EV GROUP 620 #9206564 待售

EVG/EV GROUP 620是一款全场、半自动的光刻掩模对齐器。它能够生产用于半导体器件制造过程的高精度晶片。对准精度为0.8 μ m,可实现高分辨率特征的精确阵列。该机由一个主框架和一个设备控制器组成。主框架由对准台、观看器和真空系统组成。对齐阶段能够准确定位对象支架、转接卡盘和保持掩码的框架。它还容纳了许多光学元件，包括照明器、聚焦透镜和物镜。这些元件用于将聚焦光束引导到对准级的表面。观看器是由摄像机和显示器组成的数字单元。用于准确对准和监控舞台上每个元素的位置。真空机负责为对准过程提供必要的压力。EVG 620利用对齐器、迭加器和晶圆阶梯计量法的组合，达到每个晶圆的吞吐量时间<2分钟。其对准精度基于基于三维图像的对准技术。这项技术是基于对图像的捕捉和分析，用高清可见光显微镜拍摄。对齐算法用于计算晶圆和掩模的坐标，并为X-Y-θ级提供精确的引导信息。晶圆阶梯计量学也涉及显微镜，但这次的重点是测量器件在晶圆上的阶梯高度。它采用光学干涉法生成设备的三维轮廓，并确定确切的步长大小。这项技术能够以0.1 μ m的分辨率测量甚至非常精细的步高。EV GROUP 620是一种可靠的光刻掩模对齐器，可用于半导体器件制造过程中的各种项目。它结合了最先进的对齐和计量技术，在一小部分时间内提供准确的结果。