二手 EVG / EV GROUP 620 #9207967 待售

製造商
EVG / EV GROUP
模型
620
ID: 9207967
晶圆大小: 6"
优质的: 2011
Mask aligners, 6" Topside alignment (TSA) Manual alignment Up to 6" wafer capable Can be operated in proximity, soft contact, hard contact / vacuum contact exposure modes Lamphouse: 500 W Exposure optics: Type C, 350 nm - 450 nm, broadband Microsoft windows based user interface System PC, keyboard, cables Operations manual for EVG 620 2011 vintage.
EVG/EV GROUP 620是一款高精度对准和多用途掩模对准器,通过快速、精确和多用途的操作,针对高级对准和模式进行了优化。它具有较低的热预算操作特点,可用于突破性制造热印迹失真的纳米级器件。EVG 620由晶圆和掩模处理阶段、光束投影和快门设备、精密掩模平移阶段、控制器以及电动照明和投影透镜系统组成。晶圆和掩模的稳定性由专有的EVG/EV GROPU P6000基板和图案载波端口技术保证。这项技术可以轻松加载、实现总体自动化,并且可以轻松定位多达5个″晶片和10个″ x 10个″模式载波。EV GROUP 620的精确对准光学单元由一台基于Zemax的光学机器组成,该光学机器采用计算机菲涅耳透镜,用于改进视野和减少像差。它还配备了双照明和投影工具以及场内失真校正选项。晶圆对准是使用机器的高级对准传感器阵列和自动对准软件完成的。它还配备了先进的对齐模式,以支持不同的对齐和模式需求。使用精确的迭加值,620精确地重迭晶片上的图样以创建复杂的结构。EVG/EV GROUP 620的其他值得注意的特点包括其基于激光干涉仪的覆盖和图桉精度,以及用于精确曝光控制的液压驱动快门。该资产还适合使用一系列材料,从传统的光掩码到先进的设备材料,如SiGe或GaN。总体而言,EVG 620是功能强大且用途广泛的掩码对齐器,对于要求最高精度和精确度的应用程序,它是值得信赖的选择。它是制造纳米级器件的完美工具,已成为世界各地制造实验室不可或缺的工具。
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